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- 卓力達(dá)靶標(biāo)：精密制造賦能材料沉積技術(shù)革新
- 靶標(biāo)作為物理氣相沉積（PVD）、磁控濺射等工藝的核心材料，是半導(dǎo)體、顯示面板、光伏等領(lǐng)域薄膜制備的“源頭”。南通卓力達(dá)依托精密金屬加工與表面處理技術(shù)，在高純度金屬靶標(biāo)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破。本文將從靶標(biāo)的多領(lǐng)域應(yīng)用與卓力達(dá)的核心優(yōu)勢(shì)兩方面展開(kāi)解析。
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